용인 반도체 클러스터 기반공사 ‘순항’…전기시설 등 2026년 준공

용인특례시가 추진 중인 반도체 클러스터 산업단지 핵심 기반시설 조성공사가 순항하고 있다. 근로자들이 반도체 클러스터 산업단지 전력구 설치공사에 쓰이는 TBM장비를 조립하고 있다. 용인특례시 제공

용인특례시가 추진 중인 반도체 클러스터 산업단지 핵심 기반시설 조성공사가 순항하고 있다.

 

14일 용인특례시에 따르면 해당 산단은 용인일반산업단지㈜가 처인구 원삼면 독성·고당·죽능리 일원 415만㎡에 차세대 메모리 생산기지를 구축한다. SK하이닉스는 이곳에 약 120조원을 투자해 반도체 생산공장 4동을 조성할 계획이다.

 

용인시는 해당 산단의 2027년 상반기 첫 팹(Fab) 가동을 목표로 한 각종 기반시설 공사가 계획대로 차질없이 진행 중이다.

 

지난해 5월 착공한 전력 공급시설 공사는 2026년 8월 완료를 목표로 현재 공정률 17%를 기록하고 있다. 전력 공급시설은 안성시 고삼면에 있는 신안성변전소에서 처인구 원삼면 사업 대상지까지 6.46㎞ 구간(용인 3.34㎞, 안성 3.12㎞)에 터널식 지중 송전로와 변전소 1곳을 건설하는 공사다.

 

반도체 클러스터에서 사용하는 연간 전력량은 약 2만1천440Gwh이다. 전력 공급시설은 주민 불편 최소화를 위해 머든 구간을 터널식으로 지중화해 조성 중이다.

 

전력 공급시설과 함께 취수 지점인 여주시 남한강 여주보에서 이천시를 거쳐 사업대상지인 원삼면에 이르는 36.9㎞ 구간의 용수 공급시설 설치 공사도 진행 중이다.

 

해당 구간에는 직경 1천500㎜ 관로가 매설돼 완공 후 하루 26만5천t의 공업용수를 공급한다.

 

용수 시설 공사는 기간 단축을 위해 6개 구간으로 나눠 진행되며, 2026년 7월 준공이 목표다.

 

이 밖에 반도체 클러스터 산업단지에서 발생하는 오·폐수를 처리하기 위한 공공폐수처리시설도 2026년 말까지 설치된다.

 

이 시설은 하루 평균 1만1천t을 처리할 수 있는 규모로, 총면적 3만2천600㎡의 시설이 지하에 건립된다.

 

지상에는 지역 주민 의견을 수렴해 체육시설이나 공원 등 주민 친화 공간이 조성된다.

 

이상일 시장은 “공사로 인한 주민 불편을 최소화하고 공기를 최대한 앞당겨 반도체 팹 가동에 필요한 기반시설을 기한 내 조성하겠다”고 말했다.

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